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以下材料均可以使用等離子體進(jìn)行活化、消毒和蝕刻：PEEK、PEKK、Acetal(POM)、PE、PA、或PMMA、金屬(EM,NEM,Titan)、鋯和陶瓷。在牙科工作中使用低壓等離子體進(jìn)行表面處理的優(yōu)勢：活化和蝕刻以獲得更好的附著力?等離子體可以根據(jù)形狀將高性能塑料（例如：PEEK/PEKK）與其他材料無縫組合。?通過使用離子化的氧氣-氬氣-混合氣對表面......
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eSwab®是Copan的液體Amies介質(zhì)拭子，這套采集及運輸系統(tǒng)是我們的多用途介質(zhì)，專門用于采集和運輸含有需氧菌、厭氧菌、嗜菌、病毒和衣原體的臨床標(biāo)本。eSwab®的技術(shù)特點和基液配方使其成為一款極為通用的產(chǎn)品，它還可以優(yōu)化您的實驗室工作流程，并降低成本。eSwab®不是孤立的eSwab&r......
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光學(xué)元件在各個領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用，對光學(xué)元件的表面加工精度提出越來越高的要求。如何檢測光學(xué)元件的加工精度，從而用于優(yōu)化加工方法，保證最終元器件的性能指標(biāo)，是光學(xué)元件加工領(lǐng)域的關(guān)鍵問題之一。光學(xué)元件的加工精度包括表面質(zhì)量和面型精度，這些參數(shù)會影響其對光信號的傳播，進(jìn)而影響最終器件的性能。此外，各種新型光學(xué)元件也需要檢測其表......
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——用于幾乎所有先進(jìn)薄膜或產(chǎn)品晶片測量的先進(jìn)多模計量FilmTek™2000標(biāo)準(zhǔn)桿數(shù)-SE光譜橢圓偏振儀/多角度反射儀系統(tǒng)結(jié)合了FilmTek技術(shù)，為從研發(fā)到生產(chǎn)的幾乎所有薄膜測量應(yīng)用提供了業(yè)界的精度、精度和多功能性。其標(biāo)準(zhǔn)的小點測量尺寸和模式識別能力使該系統(tǒng)成為表征圖案化薄膜和產(chǎn)品晶片的理想選擇。作為我們......
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——多模態(tài)臨界尺寸測量和薄膜計量學(xué)FilmTekTMCD光學(xué)臨界尺寸系統(tǒng)是我們解決方案，可用于1xnm設(shè)計節(jié)點及更高級別的全自動化、高通量CD測量和高級薄膜分析。該系統(tǒng)同時提供已知和*未知結(jié)構(gòu)的實時多層堆疊特性和CD測量。FilmTekCD利用多模測量技術(shù)來滿足與開發(fā)和生產(chǎn)中復(fù)雜的半導(dǎo)體設(shè)計特征相關(guān)的挑戰(zhàn)性需求。這項技......
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